YT-A100 为正性光刻胶，适用于湿法、干法刻蚀和金属电镀工艺。该款光刻胶耐受性好，去胶容易，是一种可以实现超厚膜、高...

YT-A100正性光刻胶

AZ 5214E推荐应用于Lift-off工艺图形，是一种高解像度图形反转正/负可改变型光刻胶，特别为lift-off工...

AZ 5214E 正/负可转换型光刻胶

AZ P4620是超厚膜，高对比度，高感光度G线标准正型光刻胶，适用于半导体制造及GMR磁头制造...

AZ P4620高感光度G线正胶

AZ 50XT是一种超厚膜，高分辨率，高纵宽比I线正型光刻胶，适用于微电镀工艺...

AZ 50XT 超厚膜高分辨率I线正胶

AZ 10XT是一种超厚膜，高分辨率，高纵宽比I线正型光刻胶，适用于微电镀工艺...

AZ 10XT 超厚膜高分辨率I线正胶

AZ 300MIF是一种高纯度有机碱性显影液，通用于AZ系列光刻胶...

AZ 300MIF显影液