简介：

AZ 10XT是一种超厚膜，高分辨率，高纵宽比I线正型光刻胶，适用于微电镀工艺。

特征：

1）高分辨率，高纵宽比

2）高附着性，对电镀工艺高耐受性

3）多种粘度可供选择

AZ 10XT系列光刻胶根据粘度不同，划分为以下型号。其中AZ 10XT(520cP)是常用型号。

参考工艺条件：

前烘 ：100℃ 90秒以上 (DHP)

曝光 ：I线步进式曝光机/接触式曝光系统

显影 ：AZ400K显影液(1:4) 23℃ 60~300秒 Dip

：AZ300MIF显影液23℃ 60~300秒

清洗 ：去离子水

后烘 ：120℃ 60秒以上

剥离 ：AZ剥离液及/或氧等离子体灰化

匀胶曲线：

成像参考：