产品名称：光刻机（紫外曝光机）

产品型号：Cchip-0019/6

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1.光刻机Cchip-0019/6的主要用途

Cchip-0019/6型紫外光刻机主要用于常规微型器件、结构的微细加工及微流体结构、MEMS、双向可控硅、声表面波器件、大功率整流器及石英晶体谐振器等特种器件、结构的深度微细加工。此外，该设备还可作为相关实验设备广泛应用于高校及研究所开展微细加工工艺研究。

2.光刻机Cchip-0019/6的主要特点

(1) 结合先进的CCD图像对准技术、采用紫外LED平行光照明及手动对准工件台的总体设计思路，结构新颖，整机性能优越，曝光操作直观、方便。

(2) 掩模版取放倒置吸附、样片取放采用推拉式基准平板、真空吸附的方式，方便快捷，工作效率高。

(3) 新颖的高精度、多自由度掩模-样片精密对准工件台结构设计，使掩模-样片的对准精度及速度得到极大提高。

3.光刻机Cchip-0019/6的重要技术参数

4.光刻机Cchip-0019/6的详细技术参数

(1) 曝光面积：165mm×165mm

(2) 曝光波长：365nm：

(3) 分辨力：0.8um

(4) 显微镜扫描范围：X：±50mm，Y：±20mm

(5) 对准精度：±0.5um

(6) 掩模尺寸：3英寸、4英寸、5英寸、6英寸、7英寸

(7) 样片尺寸：2英寸、3英寸、4英寸、5英寸、6英寸；厚度0.1mm~5mm

(8) 曝光方式：定时（倒计时方式）

(9) 照明不均匀性：2%（ f150mm范围）

(10) 掩模相对于样片运动行程：X: ±5mm; Y: ±5mm; q: ±6度

(11) 曝光光源：紫外LED

(12) 曝光强度：15mW/cm²

(13) 最大胶厚：350 um

(14) 光源平行性：＜1.8°

(15) 对准采用双视场对准显微镜：通过CCD+显示器对准，光学合像，光学+电子放大400倍

(16) 曝光头在曝光启动时，水平方向自动伸出，曝光结束后，水平方向自动缩回；

(17) 采用4.6英寸高灵敏度触碰式液晶屏，可直接设置曝光参数，无需鼠标和键盘；

(18) 掩模夹和承片台采用推拉式基准平板、真空吸附的方式，方便快捷，工作效率高。

5.光刻机Cchip-0019/6的安装参数

(1) 外形尺寸：700mm（长）600mm(宽) 790mm（高）

(2) 额定功率：200W

(3) 重量：100Kg