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Kayaku SU8 3050光刻胶

  • Kayaku SU8 3050光刻胶单次旋涂膜厚范围是44~100um,是一款负性环氧树脂型光刻胶,适用于显影后不去胶的工艺场景,在微流控芯片加工中,SU-8光刻胶主要用于软光刻工艺,在硅片上加工SU-8光刻胶结构作为模具,用快速模塑法倒模获得PDMS微流控芯片...
  • 产品详情

产品名称:KAYAKU SU-8 3050负性环氧树脂光刻胶

产品型号:KAYAKU SU-8 3050

产品说明书:请联系客服获取

2018年日本化药株式会社(NIPPON KAYAKU KABUSHIKI KAISHA)收购美国Microchem为子公司,2019MicroChem CorpMCC)的光刻胶产品品牌更改为Kayaku Advanced Materials, Inc.(KAM)

KAYAKU SU-8 3000系列是高对比度、环氧基负性光刻胶,专为微电子领域的应用而设计。 SU-8 3000SU-8 2000 的改进配方,多年来一直被 MEMS 制造商广泛使用。 SU-8 3000 通过改进配方,提高了胶膜在基片上的附着力并降低了涂层应力。SU-8 3000的粘度范围使其在单涂层中可以形成 0.2 - 120 µm 的膜厚。 SU-8 3000具有出色的成像特性,能够产生非常高的、甚至超过 5:1 的纵横比结构。SU-8 3000360 nm以上具有非常高的光透射率(推荐选用Cchip-0019型光刻机),这使其适合在非常厚的薄膜中形成近似垂直侧壁的结构。

在微流控芯片加工中,SU-8光刻胶主要用于软光刻工艺,在硅片上加工SU-8光刻胶结构作为模具,用快速模塑法倒模获得PDMS微流控芯片。1.1 SU-8光刻胶模具PDMS芯片浇筑.jpg

SU-8 20003000系列光刻胶,根据粘度的不同,划分为以下型号。不同型号,厂家给出的匀胶厚度范围如下表。用户可根据所需旋涂的胶膜的厚度选取对应的型号,下表红色标记的型号是常用的型号。

Microchem SU-8 2000系列

单次旋涂膜厚范围

SU-8 2000.5

0.5-0.8um

SU-8 2002

2-2.9um

SU-8 2005

5-8um

SU-8 2007

7-13um

SU-8 2010

10-20um

SU-8 2015

13-38um

SU-8 2025

20-80um

SU-8 2035

30-120um

SU-8 2050

40-170um

SU-8 2075

60-240um

SU-8 2100

100-260um

SU-8 2150

190-650um

SU-8 3005

5-10um

SU-8 3010

8-15um

SU-8 3025

22-60um

SU-8 3035

30-80um

SU-8 3050

44-100um

 

KAYAKU SU-8 2000.5/2002/2005/2015/2025/2050/2075/2100/3010/3025/3050匀胶曲线如下:

su8 2000.5-2002.png

su8 2005-2007-2010-2015.png

su8 2025-2035-2050-2075.png

su8 2100-2150.png

su8 3005-3010-3025-3035-3050.png



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