增粘剂（HMDS）

对于石英、玻璃，或者有天然氧化层的硅片来说，其表层的SiO2长时间处于大气湿度的情况下，表面会形成极性的-OH键，基底便会呈现出亲水性。而这种具有亲水性的表面，对非极性或者低极性的光刻胶来说，会表现出非常差的亲和力，导致光刻胶脱落。因此需要增粘剂来改善基底表面的疏水特性。

HMDS（(HexaMethylDiSilazane）是一种常用的增粘剂。它作用的原理是：Si(CH3)3中Si的一端与基底结合，把亲水的-OH键变成Si-O键（随着羟基分解，释放出NH3）；非极性的-CH3则远离基底形成疏水表面，与光刻胶中C、H、O组成的分子团形成较强的作用力，从而实现基底与光刻胶的良好的附着力。 

【HMDS产品简介】

分子式：（CH3 ）6Si2 NH

分子量：161.4

性  状：无色透明液体,易燃。

用  途：用于增加光刻胶与基板的粘附性。

包  装：0.5L、1GAL  玻璃瓶、18L 不锈钢桶包装。

贮运条件：阴凉储存，轻装轻卸， 易燃。

保质期限：12  个月

Formula: （CH3 ）6Si2 NH

F ．W: 161.4

Description: Colorless clear liquid, flammable.

Uses: Increase the conglutination between photoresist and basis.

Packing: 0.5L, 1GAL glass bottle, 18LSUS(304) bucket.

Store and transport condition: Store in dry cool room, keep in a sealed original container.

Shelf life：12months

【HMDS前处理工艺推荐】

(1) 蒸发涂布法

HMDS 直接扩散法在密闭的容器中，进行操作。常温（20~25℃) /5-10min；高温（70~80℃) /5-10min。由于是易燃液体，在高温使用时要注意安全。

(2) N₂ 鼓泡法

这种 HMDS 的使用方法在一体化的生产流水线上使用方便，将处理设备安置在光刻胶涂布前。高温（50~70℃) /40-60s。

(3) 旋转涂布法

使用匀胶装置将 HMDS 涂布在硅片上，3000~5000rpm/s。如果需要的话，可以考虑 70℃/1~5min。

【HMDS产品质量指标】