Microchem SU-8 3050 光刻胶
产品名称:Microchem SU-8 3050 负性光刻胶
产品型号:Microchem SU-8 3050
产品说明书:点击下载SU-8 3050 负性光刻胶说明书
美国Microchem SU-8 3000系列是高对比度、环氧基负性光刻胶,专为微电子领域的应用而设计。 SU-8 3000是SU-8 2000 的改进配方,多年来一直被 MEMS 制造商广泛使用。 SU-8 3000 通过改进配方,提高了胶膜在基片上的附着力并降低了涂层的应力。SU-8 3000的粘度范围使其在单涂层中可以形成 4 - 120 µm 的膜厚。 SU-8 3000具有出色的成像特性,能够产生非常高的、甚至超过 5:1 的纵横比结构。SU-8 3000在360 nm以上具有非常高的光透射率(推荐选用Cchip-0019型光刻机),这使其适合在非常厚的薄膜中形成近似垂直侧壁的结构。
在微流控芯片加工中,SU-8光刻胶主要用于软光刻工艺,在硅片上加工SU-8光刻胶结构作为模具,用快速模塑法倒模获得PDMS微流控芯片。
SU-8 2000和3000系列光刻胶,根据粘度的不同,划分为以下型号。不同型号,厂家给出的匀胶厚度范围如下表。用户可根据所需旋涂的胶膜的厚度选取对应的型号,下表红色标记的型号是常用的型号。
工艺流程如下:
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