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BP-2B高性能烘胶台

  • BP-2B烘胶台用于半导体工艺制备过程中,主要用于光刻工艺中光刻胶的前烘、后烘以及坚膜,具有烘胶速度快、均匀、控温精度高等特点。可长时间连续稳定工作,可广泛应用于产线生产...
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产品简介:

BP-2B烘胶台用于半导体工艺制备过程中,主要用于光刻工艺中光刻胶的前烘、后烘以及坚膜,具有烘胶速度快、均匀、控温精度高等特点。可长时间连续稳定工作,可广泛应用于产线生产。

技术参数:

1、烘胶板材料:不锈钢

2、烘胶板规格:Φ200mm

3、烘烤温度:≤200℃

4、控温精度:±2℃

5、控温形式:采用温控仪PID调节(功率调节),自动测温、控温

6、外形尺寸:280*360*220mm

7、输入电源:AC 220V/240V50Hz

8、整机功率:600W

9、整体重量:10Kg


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