Cchip-0019高深宽比紫外光刻机
产品名称：高深宽比紫外光刻机（曝光机）
产品型号：Cchip-0019
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1.高深宽比紫外光刻机Cchip-0019简介：
微流控芯片的设计结构一般深宽比较大，针对微流控芯片这一特点，中芯启恒自主研发生产了Cchip-0019适用于高深宽比工艺的光刻机。该设备采用目前最先进的LED光源，紫外波长365nm，光源纯度高，辐射能量均一可调。设备配有智能化触摸屏操作面板，外观比较传统光刻机体积更小，集成化度更高，不仅简化了操作流程，还进一步提高了工艺效率。
不仅如此，我们还对曝光系统进行了优化，将曝光过程中最大衍射误差降到极限，保证图案设计值与实际值一致，从而为芯片制作保驾护航。
2.高深宽比紫外光刻机Cchip-0019的技术参数：
(1) 曝光面积：110mm×110mm
(2) 曝光波长：365nm： 40mW/cm2
(3) 分辨力：0.8um
(4) 显微镜扫描范围：X：±50mm，Y：±20mm
(5) 对准精度： 0.5um
(6) 掩模尺寸：3英寸、4英寸、5英寸
(7) 样片尺寸：2英寸、3英寸、4英寸；厚度0.1mm--5mm
(8) 曝光方式：定时（倒计时方式）
(9) 照明不均匀性：2%（直径100mm范围）
(10) 掩模相对于样片运动行程：X: 5mm; Y: 5mm; q: ±6度
(11) 曝光光源：紫外LED
(12) 曝光强度：40mW
(13) 最大胶厚：350 um
(14) 光源平行性：＜1.8°
(15) 光路行程：650mm
(16) 对准采用双视场对准显微镜：通过CCD+显示器对准，光学合像，光学+电子放大400倍
(17) 曝光头在曝光启动时，水平方向自动伸出，曝光结束后，水平方向自动缩回；
(18) 采用4.6英寸高灵敏度触碰式液晶屏，可直接设置曝光参数，无需鼠标和键盘；
（19）掩膜夹和承片台采用采用推拉式基准平板、真空吸附的方式，方便快捷，工作效率高。
以下是客户实测图片，结构高度92um，间距20um，请参考！
中芯启恒提供一站式微流控解决方案：
（1）PDMS/玻璃/PMMA等各种材质微流控芯片加工设备、耗材、试剂、配件等服务。
（2）提供微流控芯片光刻实验室、微流控芯片软注塑实验室、微流控芯片封合实验室、微流控实验系统平台组建服务。
（3）公司提供微流控芯片加工技术培训和微流控芯片使用技术培训。
特别说明：
1）中芯启恒自主研发，拥有专利技术
2）质保壹年，性价比高，质量稳定
3）可接受样品测试申请
