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高深宽比紫外光刻机

  • 针对微流控芯片自主研发生产一款光刻机(Cchip-0019),设备采用目前先进的LED光源,紫外波长365nm,纯度高,辐射能量均一可调,智能化触摸屏操作面板;外观比较传统光刻机体积更小,集成化度高,简化操作流程,提高工艺效率。另外,我们对...
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针对微流控芯片自主研发生产一款光刻机(Cchip-0019),设备采用目前先进的LED光源,紫外波长365nm,纯度高,辐射能量均一可调,智能化触摸屏操作面板;外观比较传统光刻机体积更小,集成化度高,简化操作流程,提高工艺效率。

另外,我们对曝光系统进行优化,将曝光过程中最大衍射误差降到极限;保证图案设计值与实际值一致,从而为芯片制作保驾护航。

1.照明光束:120mm×120mm;

2.有效曝光面积:110mm×110mm;
3.分辨力:0.8m;
4.对准精度:±0.5m;
5.显微镜扫描范围:X:30mm-100mm;Y:±15mm;
6.掩模尺寸:3 寸、4 寸、5 寸;
7.样片尺寸:1 英寸—4 英寸晶圆极不规则基片;厚度0.2mm—3mm;
8.照明不均匀性: 2%(110mm×110mm 范围);
9.对准运动行程:X: 5mm; Y: 5mm; : 6 度;
10.照明光源:紫外LED;
11.曝光波长:365nm;
12.光源平行性:<1.8°
13.厚胶曝光深宽比:>20:1

14.曝光能量密度:≥ 20mW/cm 2 ;
15.曝光方式:定时(到计时方式0.1s—999.9s)

1.中芯启恒自主研发,拥有专利技术

2.质保两年,性价比高,质量稳定

3.可接受样品测试申请

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