Cchip-0019高深宽比紫外光刻机
产品名称:高深宽比紫外光刻机(曝光机)
产品型号:Cchip-0019
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1.高深宽比紫外光刻机Cchip-0019简介:
微流控芯片的设计结构一般深宽比较大,针对微流控芯片这一特点,中芯启恒自主研发生产了Cchip-0019适用于高深宽比工艺的光刻机。该设备采用目前最先进的LED光源,紫外波长365nm,光源纯度高,辐射能量均一可调。设备配有智能化触摸屏操作面板,外观比较传统光刻机体积更小,集成化度更高,不仅简化了操作流程,还进一步提高了工艺效率。
不仅如此,我们还对曝光系统进行了优化,将曝光过程中最大衍射误差降到极限,保证图案设计值与实际值一致,从而为芯片制作保驾护航。
2.高深宽比紫外光刻机Cchip-0019的技术参数:
1)曝光面积:110mm×110mm
2)曝光波长:365nm: 40mW/cm2
3)分辨力:0.8um
4)对准采用双视场对准显微镜:通过CCD+显示器对准,光学合像,光学+电子放大400倍
5)显微镜扫描范围:X:±50mm,Y:±20mm
6)对准精度: ±0.5um
7)掩模尺寸:3英寸、4英寸、5英寸
8)样片尺寸:2英寸、3英寸、4英寸;厚度0.1mm--5mm
9)曝光方式:定时(倒计时方式)
10)照明不均匀性:2%( 直径100mm范围)
11)掩模相对于样片运动行程:X: ±5mm; Y: ±5mm; q: ±6度
12)曝光光源:紫外LED
13)曝光强度:40mW
14)最大胶厚:350 um
15)光源平行性:<1.8°
16)曝光头在曝光启动时,水平方向自动伸出,曝光结束后,水平方向自动缩回
17)采用4.6英寸高灵敏度触碰式液晶屏,可直接设置曝光参数,无需鼠标和键盘
18)掩膜夹和承片台采用采用推拉式基准平板、真空吸附的方式,方便快捷,工作效率高
19)外形尺寸:660mm(长)600mm(宽) 680mm(高)
以下是客户实测图片,结构高度92um,间距20um,请参考!
中芯启恒提供一站式微流控解决方案:
(1)PDMS/玻璃/PMMA等各种材质微流控芯片加工设备、耗材、试剂、配件等服务。
(2)提供微流控芯片光刻实验室、微流控芯片软注塑实验室、微流控芯片封合实验室、微流控实验系统平台组建服务。
(3)公司提供微流控芯片加工技术培训和微流控芯片使用技术培训。
特别说明:
1)中芯启恒自主研发,拥有专利技术
2)质保壹年,性价比高,质量稳定
3)可接受样品测试申请