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Microchem SU-8 2025 光刻胶

  • 美国Microchem SU-8负性光刻胶是一种环氧树脂型、近紫外线光刻胶。SU-8光刻胶具有优异的成像特性,由于其在365-400nm波长范围内吸收度很低,胶层可以获得均匀一致的曝光量,因此能够加工近似垂直侧壁和高深宽比的厚膜结构。其主要包含SU-8 2000系列和SU-8 3000系列...
  • 产品详情
  • 技术规格

产品名称:Microchem SU-8 2025 负性光刻胶

产品型号:Microchem SU-8 2025

产品说明书:点击下载SU-8 2025 负性光刻胶说明书

美国Microchem SU-8 2000系列是高对比度环氧型负性光刻胶,专门为微加工和电子领域的应用而研发,可以满足较高的厚度以及对化学和热稳定性高的要求,多年来一直被 MEMS 制造商广泛使用。SU-8 2000采用了改进的配方单次涂布工艺可实现0.5>200um膜厚度。SU-8光刻胶具有优异的成像特性,由于其在365-400nm波长范围内吸收度很低推荐选用Cchip-0019型光刻机,胶层可以获得均匀一致的曝光量,因此能够加工近似垂直侧壁和高深宽比的厚膜结构。

在微流控芯片加工中,SU-8光刻胶主要用于软光刻工艺,在硅片上加工SU-8光刻胶结构作为模具,用快速模塑法倒模获得PDMS微流控芯片。

        SU-8 20003000系列光刻胶,根据粘度的不同,划分为以下型号。不同型号,厂家给出的匀胶厚度范围如下表。用户可根据所需旋涂的胶膜的厚度选取对应的型号,下表红色标记的型号是常用的型号。

匀胶厚度.png


工艺流程如下:

如需详细的产品使用说明书,可在下载中心”查找。

工艺流程.png

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