YT-A100 为正性光刻胶，适用于湿法、干法刻蚀和金属电镀工艺。该款光刻胶耐受性好，去胶容易，是一种可以实现超厚膜、高对比度、高感光度的正性光刻胶，适用于半导体制造及 GMR 磁头制造。

特性：

1）均匀性高：较佳的涂布均匀性；

2）感光度高：高感光度；

3）粘附力好：超强的粘附力；

4） 剥离效果好：去胶干净，无任何残留。

   推荐工艺：

   旋涂曲线：

   耐温形貌:

基底：Si

前烘：100℃，300sec 

曝光：300～500mJ/cm² 

显影：180～300sec

   耐干法刻蚀

储存条件：

YT-A100 系列产品必须在 0～10℃阴冷处存放。远离光线、氧化剂、热量和火源储存。不要储存在阳光下，不使用的时候，保持容器密封。 

注意事项： 

1）注意防火； 

2）使用的地方通风；

3）避免吸入蒸汽或薄雾；

4）操作时应戴上化学护目镜、化学手套及适当的防护服； 

5） 如果它与眼睛和皮肤接触，必须用大量的水冲洗掉，并立即联系医生处理；

6）使用前请参阅产品材料安全数据表。