F200膜厚仪介绍

1. 膜厚测量仪的特点

1）采用光谱干涉原理进行测量，具有非接触、无破坏、快速等特点；

2）可在真空环境使用；

3）可与大行程工件台配合，实现大面积膜厚自动测量。

系统结构                               光谱分布

2. 膜厚测量仪的技术参数：

1）膜厚仪：测量范围： 20nm—80μm；
2）光谱范围：380nm—950nm；
3）测量重复性*1（RMS）：0.4nm；
4）测量绝对精度*2（与椭偏仪对比）：2nm或1%（以最大值为准）；
5）入射角度：90°；
6）测试材料：透明或半透明薄膜材料；
7）光斑尺寸：标准1.5mm，20μm（选配）；
8）测量时间：100ms—4ms；
9）通信接口：USB2.0；
10）测试膜层层数：单层
11）材料库：有

3. 膜厚测量仪的测试数据

4. 膜厚测量仪的设备组成：

测试主机、光纤、校正件、测量头、夹持装置、设备箱、手提电脑。

5. 膜厚测量仪的用途：

加工PDMS微流控芯片时，测量SU-8光刻胶硅片模具上，SU-8胶层的实际厚度

ITO玻璃膜厚测量

玻璃减反膜厚度测量

手机面板膜厚测量

有色眼科透镜测量

太阳能镀膜玻璃

透明或半透明衬底上的各种膜厚度测量

光学滤光片厚度测量

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